半导体光刻用光源制造商Gigaphoton Inc.（总部：枥木县小山市；总裁兼首席执行官：Tatsuo Enami）宣布，“G300K”微孔加工光源已交付给日本一家专门从事后端设备制造的设备制造商，该集成系统已成功安装在美国一家公司的工厂内。

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Gigaphoton将其在半导体光刻光源方面的专业知识用于开发先进封装工艺的超精细刻蚀处理光源。

G300K是一种基于KrF（248nm）波长的准分子激光器，可集成到半导体封装基板的加工设备中。该激光器让长寿命模块获得高功率、高重复率、高可靠性的优势，并主要用于加工直径超过10μm的微孔以及沟槽图案。该激光器有望用于借助芯片组制造2.5D/3D封装，预计主要用于人工智能芯片组的芯片将有所增加。

Gigaphoton总裁兼首席执行官Tatsuo Enami表示：“在Gigaphoton，我们在研发半导体光刻光源的同时，也一直在探索准分子激光在其他领域应用的各种可能性。
我们将继续加快研发工作，拓展新的领域。
作为半导体制造行业的重要光源制造商，我们将继续通过不断研发新工艺来促进准分子激光器的进一步应用，从而为该行业做出贡献。”

关于GIGAPHOTON

自2000年成立以来，GIGAPHOTON一直作为光源制造商为全球半导体制造商提供宝贵的解决方案。 从研发到制造、销售和维护服务的每一个阶段，GIGAPHOTON致力于从日常用户的角度提供世界一流的支持。

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